高等級鉆石生長的工藝是采用化學氣相沉積（CVD）和微波等離子體CVD（MPCVD）技術，另外CVD和MPCVD工藝還可用于在鉆石以外的基材上進行鉆石沉積，這為許多行業帶來了技術上的進步，如光學、計算機科學和工具生產。

 在采用CVD和MPCVD工藝進行鉆石生長過程中，需要嚴格調節和控制CVD工藝的溫度、真空壓力和氣體成分，這三個變量中的任何一個變化或波動都會影響鉆石的生長速度、純度和顏色。這三個變量在實際工藝中分別代表了溫度、真空壓力和工作氣體的質量流量，即在CVD工藝中一般是在進氣口處采用氣體質量流量控制器控制氫氣和甲烷以達到設定的混合氣體成分，通過溫度傳感器和加熱裝置來調節和控制工作腔室內的溫度，最后在出氣口處通過真空計和電動閥門來調節和控制工作腔室內的真空壓力。

 針對以上氣體質量流量的控制環節，格里爾斯GRYLLS開發了CVD（MPCVD)金剛石行業專用特氣氣路盤，該產品以隔膜閥，單向閥，EP級彎頭，微米級過濾器，質量流量控制器MFC等零部件實現對多種工藝氣體的精確流量控制。

  經過多年研發和經驗的沉積，格里爾斯GRYLLS質量流量計的氣路盤，具有高密封性，高精度，集成度高等優點，產品成熟穩定已經在多個CVD(MPCVD）生產企業得到應用，為用戶減少了研發、組裝、驗證時間，大大降低了用戶的總體生產成本。

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